
K-PEEL
RESPECT
K6706003 | 50ml
K6706003 | 50ml
Peeling químico de concentração suave e pH 3.5 (respeitoso com a pele), que combina alfa-hidroxiácidos, ácido dicarboxílico e ingredientes cosméticos, adequado para todos os tipos de pele e fototipos, incluindo para pele com pouca tolerância aos peelings químicos de maior concentração e com características cosmecêuticas mais agressivas.
Não é fotosensibilizante, podendo ser utilizado durante todo o ano. Esfolia suavemente, eliminando as células na fase do desprendimento. Promove a renovação celular, minimizando imperfeições, como poros dilatados, e previne o aparecimento de comedões.
RESULTADO
A pele apresenta-se mais luminosa, fresca e purificada, com uma textura cutânea mais uniforme e um toque mais suave.
O QUE CONTÉM?
- ÁCIDO MANDÉLICO
- ÁCIDO LÁCTICO
- ÁCIDO MÁLICO
- ÁCIDO CÍTRICO
- ÁCIDO SUCCÍNICO
- AZELOGLICINA®
- Peeling químico de base aquosa e textura leve, que não deixa sensação de repuxamento nem a pele pegajosa.
- Requer limpar com água e ação equilibrante do pH cutâneo com a LOÇÃO POST-PEELING.
- Deixa uma agradável sensação de limpeza profunda e suavidade na pele.
- Não causa ardor, nem proporciona sensação de desconforto durante o tempo de exposição.
- Sem perfume.
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